发明名称 |
平面型功率MOS器件 |
摘要 |
本实用新型公开了一种可以大幅降低制造成本的平面型功率MOS器件,包括:半导体基板,半导体基板下部为重掺杂的第一导电类型衬底,上部为轻掺杂的第一导电类型漂移区;半导体基板上设置有由并联的单胞组成阵列布置的中心区即单胞区、位于单胞阵列外围的终端保护结构,单胞阵列通过导电多晶硅连成一个整体,终端保护结构包括位于内圈的场限环区和位于外围的截止环区,场限环区中设置有至少一个场限环,截止环区设置有至少一个截止环极。 |
申请公布号 |
CN203721733U |
申请公布日期 |
2014.07.16 |
申请号 |
CN201420033813.6 |
申请日期 |
2014.01.20 |
申请人 |
张家港凯思半导体有限公司 |
发明人 |
殷允超;丁磊 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
张家港市高松专利事务所(普通合伙) 32209 |
代理人 |
张玉平 |
主权项 |
一种平面型功率MOS器件,包括:半导体基板,半导体基板下部为重掺杂的第一导电类型衬底,上部为轻掺杂的第一导电类型漂移区;半导体基板上设置有由并联的单胞组成阵列布置的中心区即单胞区、位于单胞阵列外围的终端保护结构,单胞阵列通过导电多晶硅连成一个整体,终端保护结构包括位于内圈的场限环区和位于外围的截止环区,场限环区中设置有至少一个场限环,截止环区设置有至少一个截止环。 |
地址 |
215621 江苏省苏州市张家港市凤凰镇双龙村张家港凯思半导体有限公司 |