发明名称 |
光阻剥离液之再生方法及再生装置 |
摘要 |
[课题]在将高沸点分离工程的分离残留液另外进行浓缩的残渣浓缩工程中,系获得光阻成分等作为含光阻残留液,溶剂与水作为气化分离物而取出。光阻成分系在常温下为固体的有机物,因此若在残渣浓缩器的出入口附近温度下降时,会有固体化而固着之虞。[解决手段]一种光阻剥离液之再生方法系将使用完毕光阻剥离液进行再生的再生方法,其具有:低沸点分离工程,其系将水等低沸点物质分离;高沸点分离工程,其系将含有光阻成分的含光阻残留液与溶剂等作为分离物而取出;残渣浓缩工程,其系将前述含光阻残留液在残渣浓缩器内另外进行浓缩,将前述溶剂等进行分离,且送回至前述高沸点分离工程;精制工程,其系由前述高沸点分离工程的分离物,将前述水的剩余量作为废液B来进行气化分离,且将分离残留液取出作为剥离再生液;及洗净工程,其系使低沸点分离工程的分离残留液流下至前述残渣浓缩器内。 |
申请公布号 |
TW201427905 |
申请公布日期 |
2014.07.16 |
申请号 |
TW102136344 |
申请日期 |
2013.10.08 |
申请人 |
日本瑞环股份有限公司 |
发明人 |
大野顺也;川瀬龙洋;井上恭;井城大世;小林繁;増田义登 |
分类号 |
C02F1/04(2006.01);G03F7/42(2006.01);C02F103/40(2006.01) |
主分类号 |
C02F1/04(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
NIPPON REFINE CO., LTD. 日本 |