| 发明名称 | 一种化学退镀液和退镀方法 | ||
| 摘要 | 一种化学退镀液和退镀方法，属于退渡技术领域。包括硫酸、双氧水和缓蚀剂的水溶液，缓蚀剂为含有氮或硫等的有机物，或者含有-COOR，-COOH，-CHO，三键(C≡C)或多元羟基-OH等高极性的有机化合物。本发明的退渡液退镀速度快，在合适的温度下，可以再两分钟内退除0.2mm厚的镍、铜镀层。 | ||
| 申请公布号 | CN103924245A | 申请公布日期 | 2014.07.16 |
| 申请号 | CN201410143741.5 | 申请日期 | 2014.04.10 |
| 申请人 | 北京工业大学 | 发明人 | 夏志东;王峰;李婷婷;庞艺;雷永平;郭福 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I;C23F1/28(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人 | 张慧 |
| 主权项 | 化学退镀液，其特征在于，包括硫酸、双氧水和缓蚀剂的水溶液，缓蚀剂为含有氮或硫的有机物，或者含有‑COOR，‑COOH，‑CHO，三键(C≡C)或多元羟基‑OH的高极性的有机化合物。 | ||
| 地址 | 100124 北京市朝阳区平乐园100号 | ||