发明名称 |
磁记录介质的制造方法及装置 |
摘要 |
一种磁记录介质的制造方法,在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层,其特征在于:将由成膜装置形成了保护层后的被积层体不与大气接触地封入移送容器单元内;将移送容器单元搬送至汽相润滑成膜装置;及将被封入了移送容器单元内的被积层体不与大气接触地从移送容器单元内取出,在汽相润滑成膜装置内采用汽相润滑成膜方法在被积层体上形成润滑层。移送容器单元具有:对被积层体进行封入的移送容器、与成膜装置及汽相润滑成膜装置可装卸连接的预备室、对移送容器及预备室进行连接的闸阀、及可由闸阀的第1及第2阀体进行划分的分离室。在第1阀体打开了的状态下,分离室与预备室连通,在第2阀体打开了的状态下,分离室与容置室连通。 |
申请公布号 |
CN103928033A |
申请公布日期 |
2014.07.16 |
申请号 |
CN201410017329.9 |
申请日期 |
2014.01.15 |
申请人 |
昭和电工株式会社 |
发明人 |
茑谷泰之;盐见大介 |
分类号 |
G11B5/72(2006.01)I;G11B5/66(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I |
主分类号 |
G11B5/72(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
刘瑞东;段承恩 |
主权项 |
一种磁记录介质的制造方法,在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层,其特征在于:将由成膜装置形成了所述保护层后的所述被积层体不与大气接触地封入移送容器单元内;将所述移送容器单元搬送至汽相润滑成膜装置;及将被封入了所述移送容器单元内的所述被积层体不与大气接触地从所述移送容器单元内取出,在所述汽相润滑成膜装置内采用汽相润滑成膜方法在所述被积层体上形成所述润滑层,其中,所述移送容器单元具有:对所述被积层体进行封入的移送容器、与所述成膜装置及所述汽相润滑成膜装置可装卸连接的预备室、对所述移送容器及所述预备室进行连接的闸阀、及可由所述闸阀的第1及第2阀体进行划分的分离室,在所述第1阀体打开了的状态下,所述分离室与所述预备室连通,在所述第2阀体打开了的状态下,所述分离室与容置室连通。 |
地址 |
日本东京都 |