一种液晶显示器、平面转换模式的阵列基板及其制造方法

摘要

本发明公开了一种液晶显示器、平面转换模式的阵列基板及其制造方法，用以解决现有技术中的IPS模式的阵列基板不能同时实现既有较高的透过率，又能提高像素电极和公共电极与各自的预定位置之间的重合精度的问题。该阵列基板包括：基板和位于所述基板表面的钝化层，还包括：位于所述钝化层表面、且存在凹槽的第一有机膜；以及位于所述凹槽外的所述第一有机膜表面的公共电极和位于所述凹槽内的像素电极；其中，所述公共电极在所述钝化层表面的垂直投影区域和所述像素电极在所述钝化层表面的垂直投影区域不重合。

主权项

一种平面转换模式的阵列基板，包括：基板和位于所述基板表面的钝化层，其特征在于，所述阵列基板还包括：位于所述钝化层表面、且存在凹槽的第一有机膜；以及位于所述凹槽外的所述第一有机膜表面的公共电极和位于所述凹槽内的像素电极；其中，所述公共电极在所述钝化层表面的垂直投影区域和所述像素电极在所述钝化层表面的垂直投影区域不重合。