| 发明名称 | 一种气相沉积设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种气相沉积设备，其包括工艺腔室和设置于工艺腔室外部的感应加热线圈。其中，上述感应加热线圈包括至少2个串联在一起的且螺旋方向一致的子螺旋线圈，相邻的子螺旋线圈的间距可调。通过调节相邻的子螺旋线圈的间距而对工艺腔室内的温度分布进行调节，从而使工艺腔室内的温度分布趋于均匀，进而有利于获得均匀的工艺结果。 | ||
| 申请公布号 | CN102560436B | 申请公布日期 | 2014.07.16 |
| 申请号 | CN201010599935.8 | 申请日期 | 2010.12.13 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 张秀川 |
| 分类号 | C23C16/46(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/46(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 张天舒;陈源 |
| 主权项 | 一种气相沉积设备，包括工艺腔室和设置于所述工艺腔室外部的感应加热线圈，其特征在于，所述感应加热线圈包括至少2个串联在一起的且螺旋方向一致的子螺旋线圈，相邻的子螺旋线圈的间距可调，每个所述子螺旋线圈的匝数相同并均为一匝，通过调节相邻的子螺旋线圈的间距而对所述工艺腔室内垂直方向上各个位置处的温度分布进行调节。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 | ||