基板处理装置及基板运送方法;SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE TRANSPORT METHOD

摘要

本发明旨在提供一种基板处理装置可不加快驱动装置之动作速度,提升处理能力。其中分别于收纳晶圆W而施行电浆处理之真空处理室12A、12C,设置使晶圆送入送出口开合之闸阀25A、25C、侦测于晶圆送入送出口进退之晶圆W之晶圆侦测感测器35、35,藉由进行伸缩动作与旋转动作之水平多关节型机械臂15,将晶圆W自真空处理室12A朝真空处理室12C运送。此时,以晶圆侦测感测器35发送显示晶圆W通过真空处理室12A之晶圆送入送出口而到达不干扰闸阀25A及晶圆送入送出口的位置之信号为触发,水平多关节型机械臂15开始将自真空处理室12A取出之晶圆W朝真空处理室12C运送之旋转动作。