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发明名称
奈米压印方法及使用其之图案化基板之制造方法
摘要
本发明之目的在于提供一种奈米压印方法,其可在奈米压印中,改善硬化性树脂的挥发及效率低落的问题,同时减少未填充缺陷的产生。为达成上述之目的,在使用表面具有细微凹凸图案之模具1的奈米压印方法中,配置模具1及基板2,并使凹凸图案与涂布于基板2上之光阻3相对,而使得以模具1与基板2夹住的图案区域上的空间区域的表面中与环境气体接触的部分的面积,小于基板2上所涂布之光阻3中存在图案区域上的部分的表面积,且在模具1未与光阻3接触的状态下,使环境气压减压至小于10kPa之后,将模具1压附于基板2。
申请公布号
TW201428819
申请公布日期
2014.07.16
申请号
TW102141178
申请日期
2013.11.13
申请人
富士软片股份有限公司
发明人
若松哲史;药师寺隆;中村和晴
分类号
H01L21/027(2006.01);B29C59/02(2006.01)
主分类号
H01L21/027(2006.01)
代理机构
代理人
丁国隆
主权项
地址
FUJIFILM CORPORATION 日本
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