| 发明名称 | 触摸屏及其制造方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种根据本发明的实施例的触摸屏，包括：基板上的透明导电层；以及金属层，所述金属层包括直接沉积在所述透明导电层上的缓冲层和所述缓冲层上的导体层，其中所述缓冲层包括Ni、Ni-Cr、Sn和Mo中的至少任意一种。 | ||
| 申请公布号 | CN103927049A | 申请公布日期 | 2014.07.16 |
| 申请号 | CN201410086522.8 | 申请日期 | 2009.11.13 |
| 申请人 | LG伊诺特有限公司 | 发明人 | 金钾泳;罗贤珉;洪赫振 |
| 分类号 | G06F3/041(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I;G06F3/045(2006.01)I | 主分类号 | G06F3/041(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 许向彤;陈英俊 |
| 主权项 | 一种触摸屏，包括：基板上的透明导电层；以及金属层，所述金属层包括直接沉积在所述透明导电层上的缓冲层和所述缓冲层上的导体层，其中所述缓冲层包括Ni、Ni‑Cr、Sn和Mo中的至少任意一种。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||