| 发明名称 | 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够保证显示装置的显示效果。该阵列基板，包括阵列式排布的多个像素单元，所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极，其中，所述薄膜晶体管的漏极和所述像素电极之间设置有第一黑矩阵，所述第一黑矩阵形成有过孔，所述漏极和所述像素电极通过所述过孔连接，所述阵列基板还包括：第二黑矩阵，所述第二黑矩阵对应所述漏极设置，遮蔽所述第一黑矩阵的过孔。 | ||
| 申请公布号 | CN103928471A | 申请公布日期 | 2014.07.16 |
| 申请号 | CN201410110718.6 | 申请日期 | 2014.03.24 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 刘冬妮;吕敬 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1339(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板，包括阵列式排布的多个像素单元，所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极，其中，所述薄膜晶体管的漏极和所述像素电极之间设置有第一黑矩阵，所述第一黑矩阵形成有过孔，所述漏极和所述像素电极通过所述过孔连接，其特征在于，所述阵列基板还包括：第二黑矩阵，所述第二黑矩阵对应所述漏极设置，遮蔽所述第一黑矩阵的过孔。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||