发明名称 表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法
摘要 本发明涉及表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法,该方法包括以下步骤:测量SiC粉体表面的氧含量,并根据3C+SiO<sub>2</sub>=SiC+2CO↑计算出所需的碳含量;加入烧结助剂B和C混合浆料,配比如下:烧结助剂与SiC粉体的混合物∶磨球∶分散介质=1∶3∶1;烘干浆料、过筛,成型后除去粘结剂;在流动惰性气体保护下,以烧结温度为2050-2200℃进行烧结,保温时间1-4小时,生成致密的SiC陶瓷;对所得的致密的SiC陶瓷进行机械加工;对经机械加工的SiC陶瓷进行超声清洗以去除陶瓷表面上的残留粒子和沾污物。
申请公布号 CN103102158B 申请公布日期 2014.07.16
申请号 CN201110352096.4 申请日期 2011.11.09
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明人 高剑琴;黄政仁;陈健;刘桂玲;刘学建
分类号 C04B35/565(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I 主分类号 C04B35/565(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 项丹
主权项 一种表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法,该方法包括以下步骤:测量SiC粉体表面的氧含量,并根据3C+SiO<sub>2</sub>=SiC+2CO↑计算出所需的碳含量;加入烧结助剂B和C混合浆料,配比如下:烧结助剂与SiC粉体的混合物∶磨球∶分散介质=1∶3∶1;烘干浆料、过筛,成型后除去粘结剂;在流动惰性气体保护下,以烧结温度为2050‑2200℃进行烧结,保温时间1‑4小时,生成致密的SiC陶瓷;对所得的致密的SiC陶瓷进行机械加工;对经机械加工的SiC陶瓷进行超声清洗以去除陶瓷表面上的残留粒子和沾污物。
地址 200050 上海市长宁区定西路1295号