发明名称 像素单元成品结构和半成品结构
摘要 本实用新型公开了一种像素单元成品结构及半成品结构。像素单元成品结构包括:上层结构和下层结构,所述上层结构和下层结构之间设置有空腔、以及支撑体,所述上层结构从下到上依次包括支撑膜层、热敏感层、吸收传输层、保护膜层,所述下层结构包括从下到上依次包括衬底、缓冲层、反射层。本实用新型中,通过在像素单元的上层结构和下层结构之间增加了支撑体,同时,在上层结构中增加支撑膜层,并辅以保护膜层以平衡应力,提高了像素单元的机械强度,避免了应力失配引起的传感器结构变形、崩裂,进一步提高产品合格率。
申请公布号 CN203721728U 申请公布日期 2014.07.16
申请号 CN201420057255.7 申请日期 2014.01.29
申请人 上海集成电路研发中心有限公司 发明人 王伟军;王毅博
分类号 H01L27/146(2006.01)I;G01J5/10(2006.01)I 主分类号 H01L27/146(2006.01)I
代理机构 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人 吴世华;林彦之
主权项 一种像素单元成品结构,其特征在于,包括:上层结构和下层结构,所述上层结构和下层结构之间设置有空腔、以及支撑体,所述上层结构从下到上依次包括支撑膜层、热敏感层、吸收传输层、保护膜层,所述下层结构包括从下到上依次包括衬底、缓冲层、反射层。
地址 201210 上海市浦东新区张江高斯路497号