用于集成电路的基于模型的设计及布局的方法及系统

摘要

本发明描述一种方法，所述方法用于允许电子设计、检验及优化工具实施非常有效的方法而允许所述工具直接寻找出制造过程的影响，例如以识别及防止由光刻处理引起的问题。采用快速模型及图案检查来将光刻及制造感知过程集成于EDA工具(例如布线器)内。

主权项

一种用于对电子设计进行布线的系统，其包含：计算系统，其从布局的多个图案中确定单个正准图案；计算机可读存储媒体，其包含将经历布线的所述电子设计的所述布局的副本；快速图案模型，其与制造所述电子设计的制造过程有关，其中所述快速图案模型包含具有图案的数据库；及布线器，其与至少一个处理器相互配合以为所述布局实施布线，使得所述布局无已知热点，所述布线器具有用于使用所述数据库执行图案匹配的集成模块，以在所述布局的布线期间使用至少一个所述快速图案模型来分析所述布局，而非使用单独的电子设计检验工具来分析所述布局。