发明名称 电浆处理装置
摘要 对于电浆处理角型基板之平行平板型电浆处理装置,提供可以执行上部电极之温度控制性良好且安定之处理的电浆处理装置。;以具备有:具备用以将上述处理气体供给至基板之多数气体供给孔,与上述下部电极对向而被设置的板状之上部电极;覆盖上部电极,在与其上部电极之间形成与上述气体供给孔连通之处理气体之扩散空间的上部电极基座;设置在藉由该上部电极基座之内周面所包围之区域内,连接上部电极之上面和上部电极基座之下面的连接构件;和被设置在上述上部电极基座,使用以调整上部电极之温度的调温流体流通的流体流路之方式,构成电浆处理装置。
申请公布号 TWI445075 申请公布日期 2014.07.11
申请号 TW097102009 申请日期 2008.01.18
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 佐佐木和男;南雅人
分类号 H01L21/3065;C23C16/505;H05H1/46 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种电浆处理装置,将处理气体供给至处理容器内并使电浆化,并藉由其电浆对矩形之基板施予处理,该电浆处理装置之特征为:具备:下部电极,其系被设置在上述处理容器内,载置基板;矩形之板状的上部电极,其具备用以将上述处理气体供给至上述基板之多数气体供给孔,且被设置成与上述下部电极对向;平面形状为矩形之上部电极基座,其系覆盖上述上部电极之上面侧,在与其上部电极之间形成与上述气体供给孔连通之处理气体之扩散空间;复数梁,其系以在藉由该上部电极基座之内周面所包围之区域内,连接上部电极之上面和上部电极基座之下面之方式,一体性地被设置在该上部电极基座上,且以将上述扩散空间区隔成复数之方式,配置成直线状;流体流路,其系在上部电极基座,被设置成在上述复数梁之各梁的正上方沿着该梁,使用以调整上部电极之温度的调温流体流通;气体供给路,其系被设置在上述上部电极基座,将处理气体导入至上述扩散空间;和高频电源,其系用以将高频电力供给至上部电极和下部电极之间而使处理气体电浆化。
地址 日本