发明名称 |
包含一内部感测器及一迷你反应器之微影装置及处理微影装置之内部感测器之感测表面之方法 |
摘要 |
本发明揭示一种微影装置,该微影装置包括:一投影系统,该投影系统经建构及配置以将一辐射光束投影至一基板之一目标部分上;一内部感测器,该内部感测器具有一感测表面;及一迷你反应器,该迷你反应器可相对于该感测器而移动。该迷你反应器包括用于一含氢气体之一入口、一氢自由基产生器,及用于一含氢自由基气体之一出口。该迷你反应器经建构及配置以形成包含氢自由基之一区域迷你环境以处理该感测表面。 |
申请公布号 |
TWI444782 |
申请公布日期 |
2014.07.11 |
申请号 |
TW098112529 |
申请日期 |
2009.04.15 |
申请人 |
ASML荷兰公司 荷兰;卡尔蔡司SMT有限公司 德国 |
发明人 |
姆尔斯 乔汉斯 哈伯特 乔瑟夫纳;沃斯契利恩 巴斯提安 希铎;安姆 迪克 亨瑞契 |
分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种微影装置,其包含:一投影系统,该投影系统经建构及配置以将一辐射光束投影至一基板之一目标部分上;一内部感测器,该内部感测器具有一感测表面;及一迷你反应器,该迷你反应器可相对于该感测器而移动,该迷你反应器包含:用于一含氢气体之一入口;一氢自由基(radical)产生器;及用于一含氢自由基气体之一出口,该迷你反应器经建构及配置以形成包含氢自由基之一区域迷你环境以处理该感测表面,其中该迷你反应器之一外部部分包含一材料,该材料具有一大于约0.02的氢自由基表面重组系数(hydrogen radical surface recombination coefficient)。 |
地址 |
德国 |