发明名称 特别用于极紫外线辐射及/或软X辐射的气体放电源
摘要 本发明系关于一种特别用于产生极紫外线(EUV)辐射及/或软X辐射之气体放电源,其包括至少二个电极本体,其中一第一电极本体包括一可旋转地安装之电极盘。该气体放电源进一步包括一用于该电极盘之旋转驱动器;一装置,其系用于将一目标材料之液膜施加于该电极盘之一径向外表面上,及一雷射器,其系用于发射一雷射光束,其在一放电区域内聚焦于该电极盘之径向外表面上以蒸发该液膜中的目标材料。该气体放电源之特征为一中间空间形成于该等电极本体之间,该放电区域外之中间空间具有一<5mm之缩减宽度,其小于该放电区域内之中间空间。所提议的气体放电源使得该产生的辐射可藉由一简单方式以一更大的立体角范围而被放射出,而不被该等电极遮蔽。
申请公布号 TWI445458 申请公布日期 2014.07.11
申请号 TW097148994 申请日期 2008.12.16
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 荷兰 发明人 约伯 威力 尼夫
分类号 H05G2/00;H05H1/16 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种特别用于产生极紫外线(EUV)辐射及/或软X辐射之气体放电源,其包括至少二个电极本体(110、120),其中一第一电极本体(110)包括一可旋转地安装之电极盘(100);一用于该电极盘(100)之旋转驱动器(130);一装置(140),其系用于将一目标材料之液膜施加于该电极盘(100)之一径向外表面上;及一雷射器,其系用于发射一雷射光束(190),其在一放电区域(240)内聚焦于该电极盘(100)之该径向外表面上以蒸发该液膜中的目标材料;该气体放电源之特征为一中间空间(160)形成于该等电极本体(110、120)之间,其在该放电区域(240)外之宽度相较于该放电区域(240)之距离,被减小至<5mm。
地址 荷兰