| 发明名称 |
氧化矽玻璃坩埚，以及矽锭的制造方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种进行多次拉制时能抑制氧化矽玻璃坩埚的压曲及沉入的氧化矽玻璃坩埚。本发明的氧化矽玻璃坩埚用于单晶矽拉制，其内表面具有矿化剂，该矿化剂含有Ca、Sr、Ba、Ra、Ti、Zr、Cr、Mo、Fe、Co、Ni、Cu和Ag中的至少一种原子，在所述内表面上的所述矿化剂的浓度在1.0×105~1.0×1017个/cm2的范围内。 |
| 申请公布号 |
TWI444340 |
申请公布日期 |
2014.07.11 |
| 申请号 |
TW100125170 |
申请日期 |
2011.07.15 |
| 申请人 |
日本超精石英股份有限公司 日本 |
发明人 |
须藤俊明;岸弘史 |
| 分类号 |
C03B20/00;C30B15/10;C30B35/00 |
主分类号 |
C03B20/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
刘育志 台北市大安区敦化南路2段77号19楼 |
| 主权项 |
一种氧化矽玻璃坩埚，用于单晶矽拉制，其特征在于：该坩埚的内表面具有矿化剂，该矿化剂含有Ca、Sr、Ba、Ra、Ti、Zr、Cr、Mo、Fe、Co、Ni、Cu、以及Ag中的至少一种原子，在所述内表面上的所述矿化剂的浓度在1.0×108~1.0×1014个/cm2的范围内。 |
| 地址 |
日本 |
