发明名称 光酸产生剂及光反应性组成物
摘要 本发明之目的系提供一种光酸产生剂,其在近紫外线区域之300至400nm附近的感度非常高,可充分提升使用该光酸产生剂之光反应性组成物的反应速度;并且,本发明之目的系提供一种光反应性组成物,其即使以非常短时间之近紫外线照射亦可开始反应,且可得到所希望之反应生成物。更详而言之,本发明系提供:;式(A1)所示之二噻吩基硫醚二鋶盐、含有该二噻吩基硫醚二鋶盐之光酸产生剂、以及含有该光酸产生剂及酸反应性化合物之光反应性组成物:;(A1);(式中,R1a至R4a分别独立地表示可具有取代基之单环式碳环基、可具有取代基之缩合多环式碳环基或可具有取代基之单环式杂环基,X-表示无机酸离子或有机酸离子);;式(B1)所示之二噻吩基硫醚鋶盐、含有该盐之光酸产生剂、以及含有该光酸产生剂之光反应性组成物:;(B1);(式中,R1b及R2b分别独立地表示可具有取代基之单环式碳环基,可具有取代基之缩合多环式碳环基或可具有取代基之单环式杂环基,R3b至R5b分别独立地表示氢原子、碳数1至10的烷基、碳数1至4之烷氧基、醯基或羟基;X-表示无机酸离子或有机酸离子);及;式(C1)所示之苯硫基噻吩鋶盐、含有该盐之光酸产生剂、以及含有该光酸产生剂及酸反应性组成物之光反应性组成物:;(C1);(式中,R1c及R2c分别独立地表示可具有取代基之单环式碳环基、可具有取代基之缩合多环式碳环基或可具有取代基之单环式杂环基,R3c至R7c分别独立地表示氢原子、碳数1至10的烷基、碳数1至4之烷氧基、醯基或羟基;X-表示无机酸离子或有机酸离子)。
申请公布号 TWI444374 申请公布日期 2014.07.11
申请号 TW097143001 申请日期 2008.11.07
申请人 住友精化股份有限公司 日本 发明人 山本胜政;山口博史;铃木三千雄
分类号 C07D333/34;C08F2/50 主分类号 C07D333/34
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼
主权项 一种二噻吩基硫醚二鋶盐,系以式(A1)表示:(式中,R1a至R4a分别独立地表示可具有取代基之单环式碳环基、可具有取代基之缩合多环式碳环基或可具有取代基之单环式杂环基,X-表示无机酸离子或有机酸离子)。
地址 日本