| 发明名称 |
光敏组成物 |
| 摘要 |
本发明系提供可用于光微影制程之辐射敏感性聚合物及组成物。该等聚合物及组成物系提供增强之对于活化辐射的敏感度。 |
| 申请公布号 |
TWI444394 |
申请公布日期 |
2014.07.11 |
| 申请号 |
TW099146224 |
申请日期 |
2010.12.28 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 美国 |
发明人 |
赛可瑞 詹姆士Ｗ;阿葵德 恩媚德 |
| 分类号 |
C08F220/38;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F220/38 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
| 主权项 |
一种聚合物，系包括聚合物骨架及共价地附接于该聚合物骨架之单体系光酸产生剂，其中，该单体系光酸产生剂系衍生自一种或多种分别由式(1a)或式(1b)表示之具有可聚合磺酸根阴离子的鋶盐或錪盐：其中：Y为氢、烷基、氟化烷基或氟；R1、R2、R3、R4及R5系独立选自经取代基及未经取代之芳基；以及Z为透过包含末端CF2、C(F)(CF3)或C(CF3)2之直链或分支链全氟烷基链共价地键结至该磺酸根阴离子之经取代之芳族基。 |
| 地址 |
美国 |
