涂布显影装置、涂布显影方法及记忆媒体

摘要

本发明旨在提供一种涂布显影装置、涂布显影方法及记忆媒体，可抑制曝光装置中曝光时间变长，且可抑制自曝光装置中曝光处理结束起，至进行为使光阻膜中受到曝光之区域对显影液之溶解性产生变化而进行之加热处理止之时间差异导致光阻图案之形状产生差异。;其中，藉由传递机构接收于曝光装置沿图案受到曝光之基板，俾使对光阻膜所供给之能量之量不超过该光阻固有之范围，再将该基板朝加热模组输送之，藉由该加热模组对该光阻膜整体供给能量，该能量之量不超过该固有范围，且与该曝光时所供给之能量之量之总和超过该固有范围，然后藉由加热板加热该基板以使该溶解性产生变化。

主权项

一种涂布显影装置，包含：涂布模组，将一化学放大型光阻涂布于基板表面以形成光阻膜，该化学放大型光阻会因被供给之能量总量超过固有范围并受到加热而导致受到该能量供给之区域中对显影液之溶解性产生变化；传递机构，接收于曝光装置沿图案以对该光阻膜所供给之能量之量不超过该固有范围之方式受到曝光之基板；加热模组，包含：能量供给部，由该传递机构传递受到曝光后之基板，并对该光阻膜整体供给能量，该能量之量不超过该固有范围，且与该曝光时所供给之能量之量之总和超过该固有范围；及加热板，加热该基板以使该溶解性产生变化；及显影模组，使于该加热模组受到加热之基板显影以于该光阻膜形成图案；且该能量供给部对被送入该加热板途中之基板供给能量或对被载置于该加热板上之基板供给能量。