发明名称 塑胶金属化立体线路制造方法
摘要 本发明系一种塑胶金属化立体线路制造方法,包含:提供三维结构的塑胶本体;对塑胶本体进行表面前处理;对塑胶本体表面进行金属化处理,沈积形成金属薄膜层;对金属薄膜层表面进行光阻涂布处理,形成光阻保护层;对光阻保护层进行曝光/显影处理,形成图案化光阻保护层;对显露的金属薄膜层进行蚀刻处理,形成图案化金属线路层;对图案化光阻保护层进行剥除处理;以及对图案化金属线路层表面进行表层处理,形成金属保护层。如此即可在三维立体的塑胶本体上直接形成一立体布线的电路图案,而无须在塑胶本体上额外设置一电路载体,以满足轻、薄、短、小的需求。
申请公布号 TWI445474 申请公布日期 2014.07.11
申请号 TW100142190 申请日期 2011.11.18
申请人 胡泉凌;联滔电子有限公司 香港 发明人 胡泉凌;蔡镇隆;陈誉尉;张宸豪
分类号 H05K3/10 主分类号 H05K3/10
代理机构 代理人 易定芳 台北市松山区八德路3段20号5楼之3
主权项 一种塑胶金属化立体线路制造方法,包括以下步骤:(1)提供一三维结构的塑胶本体;(2)对上述塑胶本体进行表面前处理,其中,上述表面前处理包含:表面脱脂、粗化、敏化以及活化处理;(3)对上述塑胶本体表面进行低温溅镀或塑胶水电镀的金属化处理,沈积形成一金属薄膜层;(4)对上述金属薄膜层表面以浸涂或喷涂的方式,进行光阻涂布处理,形成一光阻保护层;(5)对上述光阻保护层进行曝光/显影处理,形成一图案化光阻保护层,其中,上述曝光处理系采用单面或双面曝光的其中一种,利用雷射或紫外光源,依特定立体曝光线路图形的区域或位置直接照射于光阻保护层上,又上述立体曝光线路图形选自于直接扫瞄图形;(6)对显露的金属薄膜层进行蚀刻处理,形成一图案化金属线路层;(7)对上述图案化光阻保护层进行剥除处理;以及(8)对上述图案化金属线路层表面进行化学镀表层处理,形成一金属保护层。
地址 香港