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经营范围
发明名称
成膜装置和成膜方法
摘要
提供一种成膜装置和成膜方法,可精确地控制形成在成膜标的物上的薄膜的厚度。成膜装置(1)包括用于在预定成膜等待位置与预定成膜位置之间移动成膜源(21)的移动部(成膜源单元(20)),此移动部保持测量用石英振荡器(22)和校正用石英振荡器(23)以维持它们相对于成膜源(21)的相对位置。在成膜标的物上形成膜的成膜步骤当中,执行利用校正用石英振荡器(23)的监测值校正测量用石英振荡器的监测值的校正步骤。
申请公布号
TWI444495
申请公布日期
2014.07.11
申请号
TW100139149
申请日期
2011.10.27
申请人
佳能股份有限公司 日本
发明人
中川善之;中野真吾;福田直人
分类号
C23C14/54;G01B17/02
主分类号
C23C14/54
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种用于在成膜标的物上形成成膜材料的膜的成膜装置,包括:成膜源,用于加热该成膜材料以及用于释放出该成膜材料的蒸气;移动部,用于使该成膜源在预定成膜等待位置与预定成膜位置之间移动;测量用石英振荡器,用于监测从该成膜源释放出的该成膜材料的蒸气的量;以及校正用石英振荡器,用于校正该测量用石英振荡器的测量值,其中,该移动部保持该测量用石英振荡器和该校正用石英振荡器。
地址
日本
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