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发明名称
电磁屏蔽膜及具有该电磁屏蔽膜的镜头模组
摘要
本发明涉及一种电磁屏蔽膜,该电磁屏蔽膜形成于光学元件上,光学元件有用于改善光学性能的滤光膜,滤光膜上覆盖有用于限制光线进入的遮光膜,遮光膜上覆盖有电磁屏蔽膜。该电磁屏蔽膜包括第一金属层及第二金属层,第一金属层为不锈钢材料,第一金属层直接形成于遮光膜表面,第二金属层系铜,第二金属层形成于第一金属层表面。
申请公布号
TWI444691
申请公布日期
2014.07.11
申请号
TW098134559
申请日期
2009.10.13
申请人
鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号
发明人
洪新钦
分类号
G02B7/04;H05K9/00
主分类号
G02B7/04
代理机构
代理人
主权项
一种电磁屏蔽膜,该电磁屏蔽膜形成于光学元件上,所述光学元件有用于改善光学性能的滤光膜,所述滤光膜上覆盖有用于限制光线进入的遮光膜,所述遮光膜上覆盖有所述电磁屏蔽膜,其改进在于,该电磁屏蔽膜包括第一金属层及第二金属层,所述第一金属层为不锈钢材料,所述第一金属层直接形成于所述遮光膜表面,所述第二金属层系铜,所述第二金属层形成于所述第一金属层表面。
地址
新北市土城区自由街2号
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