电浆源机构及成膜装置

摘要

本发明，系能够将大面积之电浆以良好再现性来产生，并藉由此而提供一种能够适用于广泛之用途中的使用有低价之电浆源的电浆处理技术。本发明之电浆源机构(1)，系可适用在具备有真空槽(20)之真空装置(21)中，并具备有：矩形环状之天线部(12)，系在真空槽(20)之外侧处隔着介电质部(10)而被配置，并可施加高频电力；和磁石部(11)，系在真空槽(20)之外侧处隔着介电质部(10)而被配置在天线部(12)之近旁，并具备有与天线部(12)相对应之矩形形状。天线部(12)，系将第1以及第2天线线圈(14、15)邻接并作近接配置，且第1以及第2天线线圈(14、15)系被并联连接。

主权项

一种电浆源机构，系为可适用在具备有真空槽之真空装置中的电浆源机构，其特征为，具备有：环状之天线部，系在前述真空槽之外侧处隔着介电质部而被配置，并可施加高频电力；和磁石部，系在前述真空槽之外侧处隔着前述介电质部而被配置在前述天线部之近旁，并具备有与前述天线部相对应之形状，前述天线部，系由复数之天线线圈所成，前述复数之天线线圈，系被形成为具有直线状之长边本体部以及短边本体部的矩形环状，前述复数之天线线圈系以相互邻接并相重叠的方式而近接配置，且将该复数之天线线圈作并联连接。