| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Spiegelanordnung (200) mit einer Mehrzahl von Spiegelelementen (200a, 200b, 200c, ...), die zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung (200) reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind, einer polarisationsbeeinflussenden optischen Anordnung (100, 400), welche wenigstens eine polarisationsbeeinflussende Komponente (101, 102, 103, 401, 402, 403) aufweist, wobei durch Verschieben dieser polarisationsbeeinflussenden Komponente ein Überlappungsgrad zwischen der polarisationsbeeinflussenden Komponente (101, 102, 103, 401, 402, 403) und der Spiegelanordnung (200) variabel einstellbar ist, und einer Umlenkeinrichtung (300, 360, 370), welche bezogen auf die Lichtausbreitungsrichtung stromaufwärts sowie stromabwärts der Spiegelanordnung (200) jeweils eine Reflexionsfläche (300a, 300b, 360a, 360b, 370a, 370b) aufweist.</p> |
