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Verfahren zum Herstellen einer implantierbaren Stimulationselektrode (7), umfassend die Verfahrensschritte:–teilweise Füllen einer Sinterform (1, 2, 3) für die implantierbare Stimulationselektrode (7) mit einer ersten Sinterfraktion (5) aus einem Pulver oder Schlicker mit Sinterpartikeln eines elektrisch leitfähigen Materials, so dass ein ungefüllter Raum in der Sinterform (1, 2, 3) verbleibt,–wenigstens teilweise Füllen des verbleibenden Raums der Sinterform (1, 2, 3) mit einer zweiten Sinterfraktion (6) aus einem Pulver oder Schlicker mit Sinterpartikeln eines leitfähigen Materials, die sich von den Sinterpartikeln der ersten Sinterfraktion (5) in der durchschnittlichen Partikelgröße und/oder der Materialzusammensetzung bezüglich des Schmelzpunktes unterscheiden,–Erzeugen der implantierbaren Stimulationselektrode (7) mit gradierter Porosität durch Co-Sintern der beiden Sinterfraktionen (5, 6) in der Sinterform (1, 2, 3), wobei die erste Sinterfraktion (5) einen porösen Kontaktierungsbereich (9) und die zweite Sinterfraktion ein Substrat (8) formt, so dass der porösen Kontaktierungsbereich (9) und das Substrat (8) der implantierbare Stimulationselektrode (7) fest miteinander verfügt sind. |
