发明名称 Auf Galliumnitrid basierende Vorrichtungen und Herstellungsverfahren
摘要 Eine Halbleiterstruktur, die folgendes aufweist: (a) ein Siliziumsubstrat; (b) eine Aluminiumschicht direkt über einer Oberfläche des Substrats liegend; (c) eine polykristalline Kernbildungsschicht aus einem Nitridhalbleiter direkt über der Aluminiumschicht liegend; (d) eine Pufferstruktur einschließlich einer oder mehrerer Supergitter über der Kernbildungsschicht liegend, wobei jedes der Supergitter eine Vielzahl von auf Nitrid basierenden Halbleitern unterschiedlicher Zusammensetzungen aufweist; und (e) eine operative oder Betriebsstruktur aus einem oder mehreren auf Galliumnitrid basierenden Halbleitern, die über der erwähnten Pufferstruktur liegen.
申请公布号 DE10392313(B4) 申请公布日期 2014.07.10
申请号 DE2003192313 申请日期 2003.12.02
申请人 EMCORE CORP. 发明人 GUO, SHIPING;GOTTHOLD, DAVID;POPHRISTIC, MILAN;PERES, BORIS;ELIASHEVICH, IVAN;SHELTON, BRYAN;CERUZZI, ALEX D.;MURPHY, MICHEL;STALL, RICHARD A.
分类号 H01L21/205;H01L29/872;C30B29/68;H01L21/20;H01L29/15;H01L29/20;H01L29/80;H01L33/00;H01S5/20 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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