发明名称 |
Auf Galliumnitrid basierende Vorrichtungen und Herstellungsverfahren |
摘要 |
Eine Halbleiterstruktur, die folgendes aufweist: (a) ein Siliziumsubstrat; (b) eine Aluminiumschicht direkt über einer Oberfläche des Substrats liegend; (c) eine polykristalline Kernbildungsschicht aus einem Nitridhalbleiter direkt über der Aluminiumschicht liegend; (d) eine Pufferstruktur einschließlich einer oder mehrerer Supergitter über der Kernbildungsschicht liegend, wobei jedes der Supergitter eine Vielzahl von auf Nitrid basierenden Halbleitern unterschiedlicher Zusammensetzungen aufweist; und (e) eine operative oder Betriebsstruktur aus einem oder mehreren auf Galliumnitrid basierenden Halbleitern, die über der erwähnten Pufferstruktur liegen. |
申请公布号 |
DE10392313(B4) |
申请公布日期 |
2014.07.10 |
申请号 |
DE2003192313 |
申请日期 |
2003.12.02 |
申请人 |
EMCORE CORP. |
发明人 |
GUO, SHIPING;GOTTHOLD, DAVID;POPHRISTIC, MILAN;PERES, BORIS;ELIASHEVICH, IVAN;SHELTON, BRYAN;CERUZZI, ALEX D.;MURPHY, MICHEL;STALL, RICHARD A. |
分类号 |
H01L21/205;H01L29/872;C30B29/68;H01L21/20;H01L29/15;H01L29/20;H01L29/80;H01L33/00;H01S5/20 |
主分类号 |
H01L21/205 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|