发明名称 具有直接装载台板的抛光设备和方法
摘要 本发明提供一种用于化学机械抛光的方法和设备,其包括支撑着抛光物件的台板、位于台板附近的机械手、带有保持环的抛光头、以及抛光头支撑机构。机械手被设置成将衬底定位在抛光物件上,抛光头支撑机构被设置成使抛光头移动到使保持环围绕衬底的位置。
申请公布号 CN101277787B 申请公布日期 2014.07.09
申请号 CN200680036363.4 申请日期 2006.09.21
申请人 应用材料公司 发明人 陈宏清
分类号 B24B37/32(2012.01)I 主分类号 B24B37/32(2012.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 陆勍
主权项 一种化学机械抛光设备,包括:具有N个抛光头的转盘,所述N个抛光头围绕所述转盘的旋转轴线大体上等角度地定位;N个台板,包括装载台板,所述N个台板各自被设置成支撑抛光物件,所述N个台板围绕所述转盘的旋转轴线大体上等角度地定位,使得每个抛光头能够将衬底定位成与有关台板处的抛光物件接触;机械手,所述机械手位于与所述装载台板接近处,并被设置成将衬底定位在所述装载台板处的抛光物件上,以装载到所述N个抛光头的抛光头中,其中,所述抛光头的安装表面被缩回,所述机械手的叶片将所述衬底横向传输到抛光头和所述抛光物件之间的位置,将所述衬底降低到所述抛光物件的抛光表面上,松开所述衬底,并缩回,然后所述抛光头的所述安装表面降低使得所述衬底配装在所述抛光头的容纳凹部中;和调节机构,在所述机械手将所述衬底放置在所述抛光物件表面上的第一位置处之后,所述调节机构接合所述衬底并将所述衬底重新定位到所述抛光物件表面上的第二位置,所述第二位置处于抛光头从所述台板卡住所述衬底的位置范围内,所述第一位置包括范围之外的位置。
地址 美国加利福尼亚州