发明名称 测量系统、方法和光刻设备
摘要 本发明公开了一种测量系统、方法和光刻设备。所述测量系统配置成得出物体的位置量,所述测量系统包括:至少一个位置量传感器,配置成提供各自的位置量测量信号;位置量计算器,配置成由所述位置量测量信号确定所述物体的位置量,其中所述位置量计算器包括扭转估算器,所述扭转估算器配置成估算所述物体的扭转,所述位置量计算器配置成针对于所述估算的扭转来校正所述物体的已确定的位置量。
申请公布号 CN102298269B 申请公布日期 2014.07.09
申请号 CN201110167303.9 申请日期 2011.06.21
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 H·H·M·考克西;W·H·G·A·考恩;T·A·马塔尔;M·T·J·彼德尔斯;R·A·A·沃库伊耶
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 吴敬莲
主权项 一种测量系统,配置成得出物体的位置量,所述位置量包括位置、速度和加速度中的至少一个,所述测量系统包括:位置量传感器,配置成提供位置量测量信号;位置量计算器,配置成根据所述位置量测量信号确定所述物体的位置量,其中所述位置量计算器包括扭转估算器,所述扭转估算器配置成估算所述物体的扭转,所述位置量计算器配置成根据所估算的扭转来校正所述物体的已确定的位置量,其中所述位置量计算器还包括带滤波器,所述带滤波器的频带设置成其中怀疑可能出现扭转模式所在的频率范围,所述扭转估算器设置在所述位置量计算器的平行路径中。
地址 荷兰维德霍温