一种用于干法刻蚀的承载装置及干法刻蚀装置

摘要

本发明涉及到液晶显示装置生产的技术领域，公开了一种用于干法刻蚀的承载装置及干法刻蚀装置。该承载装置包括：基台；设置于所述基台并用于支撑基板的多个干刻电极；套装于每个干刻电极并将所述干刻电极与所述基板隔离的保护膜，且所述保护膜的韦氏硬度低于所述基板的韦氏硬度。在上述技术方案中，基板直接与保护膜接触，由于保护膜的韦氏硬度低于基板的韦氏硬度，因此，在基板与保护膜之间出现滑动时，保护膜不会划伤基板，提高了基板在刻蚀时的安全性，降低了刻蚀后的不良率，进而提高了基板刻蚀后的质量。

主权项

一种用于干法刻蚀的承载装置，其特征在于，包括：基台；设置于所述基台并用于支撑基板的多个干刻电极；套装于每个干刻电极并将所述干刻电极与所述基板隔离的保护膜，且所述保护膜的韦氏硬度低于所述基板的韦氏硬度。