| 发明名称 | 用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物。所述用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物包括硝酸、盐酸、有机酸和余量的水，所述组合物能够快速且均匀地蚀刻金属氧化物层（透明的氧化物半导体），提高布线的平直度，且制备简单、容易控制。 | ||
| 申请公布号 | CN103911158A | 申请公布日期 | 2014.07.09 |
| 申请号 | CN201310661058.6 | 申请日期 | 2013.12.09 |
| 申请人 | 东友精细化工有限公司 | 发明人 | 权五炳;金童基;李智娟 |
| 分类号 | C09K13/06(2006.01)I | 主分类号 | C09K13/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 杨黎峰;石磊 |
| 主权项 | 一种用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物，包括：硝酸HNO<sub>3</sub>、盐酸HCl、有机酸、和余量的水。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道益山市 | ||