发明名称 |
光学器件的制备方法 |
摘要 |
以低成本制备包括低折射率膜的光学器件。为了实现该目的,在包括将低折射率膜和高折射率膜交替层叠的多层膜的光学器件的制备方法中,通过使用靶单元的溅射沉积系统在基材上形成多孔膜。将该多孔膜浸入液体中以降低该膜的折射率。通过以简单的步骤形成折射率比以往使用的膜低的低折射率膜,能够以低成本得到高质量光学器件。 |
申请公布号 |
CN102081172B |
申请公布日期 |
2014.07.09 |
申请号 |
CN201010565702.6 |
申请日期 |
2010.11.26 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
寺西康治;福井慎次;坂野溪帅 |
分类号 |
G02B1/11(2006.01)I;G02B5/02(2006.01)I |
主分类号 |
G02B1/11(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
李帆 |
主权项 |
光学器件的制备方法,该光学器件在其表面具有包含MgF<sub>2</sub>的薄膜,该方法包括:通过溅射在基材上形成多孔薄膜,该多孔薄膜具有0.77以下的填充率;和对该多孔薄膜进行浸液处理以降低该多孔薄膜的折射率,由此形成包含MgF<sub>2</sub>且具有预定的折射率的膜。 |
地址 |
日本东京 |