曝光装置

摘要

掩模台(10)具有：掩模台基座(11)；能够分别吸附保持掩模M各边的四个掩模架(71，72)；分别设置在用于吸附保持掩模台基座(11)侧和掩模M短边侧的一对掩模架(72)之间的线性导轨(73)；使短边侧的掩模架(72)移动的驱动机构(74)；设置于掩模台基座(11)侧与掩模架(72)侧之间，能够调整掩模(M)的倾斜角的倾斜角调整机构(80)。由此，在平坦度维持一定的状态下，能够对应于尺寸不同的多个掩模。

主权项

一种曝光装置，具有：载置有作为被曝光材料的基板的基板台；掩模台，其配置于所述基板台的上方，用于保持大致矩形状的掩模；以及经所述掩模对所述基板照射图案曝光用光的照射机构；其特征在于，所述掩模台具有：掩模台基座侧构件；四个掩模架，能够分别吸附保持所述掩模的各边；多个引导机构，分别设置在所述掩模台基座侧构件与用于吸附保持所述掩模短边侧的至少两个所述掩模架之间，能够引导所述短边侧的掩模架相对于所述掩模台基座侧构件向长边方向移动；驱动机构，使所述短边侧的掩模架相对于所述掩模台基座侧构件向长边方向移动；以及倾斜角调整机构，分别设置在所述掩模台基座侧构件与所述各引导机构之间、和所述各引导机构与所述短边侧的掩模架之间中的至少一方，并能够调整所述掩模的倾斜角，其中，所述倾斜角调整机构为彼此高度不同且可更换的一对隔垫，彼此在Z轴方向的高度不同的、可更换的一对隔垫配置在各滑块构件与短边侧的掩模架之间。