一种原位形貌和光学性能监控蒸发源及真空沉积设备

摘要

本实用新型涉及一种原位形貌和光学性能监控蒸发源，它包括真空法兰、支撑于所述真空法兰任一侧面上的热屏蔽组件、嵌设于所述热屏蔽组件远离真空法兰一端的加热组件、内置于所述加热组件内的材料容器、安装于所述材料容器附近用于测量其温度的温度测量组件、分别与所述加热组件和温度测量组件相电连接且安装于真空法兰上的真空电连接器、与所述真空电连接器相连接的控制电源，所述的蒸发源还包括安装于热屏蔽组件内的显微镜，所述的真空法兰上设有与显微镜位置相对的观察窗口。通过在热屏蔽组件内设置显微镜并且真空法兰上设有与显微镜位置相对的观察窗口，能够在沉积蒸发材料的同时实时监控沉积材料在衬底表面形貌和光学性能。

主权项

一种原位形貌和光学性能监控蒸发源，其特征在于：它包括真空法兰、支撑于所述真空法兰任一侧面上的热屏蔽组件、嵌设于所述热屏蔽组件远离真空法兰一端的加热组件、内置于所述加热组件内的材料容器、安装于所述材料容器附近用于测量其温度的温度测量组件、分别与所述加热组件和温度测量组件相电连接且安装于真空法兰上的真空电连接器、与所述真空电连接器相连接的控制电源，所述的蒸发源还包括安装于热屏蔽组件内的显微镜，所述的真空法兰上设有与显微镜位置相对的观察窗口。