发明名称 |
一种制备金刚石膜的装置及使用该装置制备金刚石膜的方法 |
摘要 |
本发明提供一种制备金刚石膜的装置,其采用微波等离子体化学气相沉积装置,该装置包括微波系统、真空系统、供气系统和等离子反应室,等离子反应室中设有一自旋转基片台,工作过程中微波系统产生的微波进入等离子反应室,在自旋转基片台上方激发供气系统提供的气体产生等离子体球,在自旋转基片台上方还设有耐高温金属圆环,该耐高温金属圆环位于等离子球内部下半部分。 |
申请公布号 |
CN103911596A |
申请公布日期 |
2014.07.09 |
申请号 |
CN201410068775.2 |
申请日期 |
2014.02.27 |
申请人 |
武汉工程大学 |
发明人 |
满卫东;汪建华;游志恒;涂昕;张玮;林晓棋;阳硕 |
分类号 |
C23C16/27(2006.01)I;C23C16/513(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/27(2006.01)I |
代理机构 |
湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 |
代理人 |
崔友明 |
主权项 |
一种制备金刚石膜的装置,其采用微波等离子体化学气相沉积装置,该装置包括微波系统、真空系统、供气系统和等离子反应室,等离子反应室中设有一自旋转基片台,工作过程中微波系统产生的微波进入等离子反应室,在自旋转基片台上方激发供气系统提供的气体产生等离子体球,其特征在于:在自旋转基片台上方还设有耐高温金属圆环,该耐高温金属圆环位于等离子球内部下半部分。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市洪山区雄楚大街693号 |