| 发明名称 | 一种氧化硅抛光液及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种氧化硅抛光液，包括以下质量百分含量的各组分：胶体氧化硅10-50%，氧化剂双氧水1-5%，表面活性剂0.2-1%，缓蚀剂，0.2-2%，去离子水，48.6-89.6%。所述氧化剂为双氧水；所述表面活性剂聚乙二醇，十二烷基硫酸钠，二苯胺磺酸钠中的一种或其任意组合物。该抛光液用于铝合金基片抛光，能够减少氧化硅的结晶，从而降低铝合金表面划伤和划痕。 | ||
| 申请公布号 | CN103911617A | 申请公布日期 | 2014.07.09 |
| 申请号 | CN201410093599.8 | 申请日期 | 2014.03.13 |
| 申请人 | 深圳市宇泰隆科技有限公司 | 发明人 | 曾名辉 |
| 分类号 | C23F3/02(2006.01)I | 主分类号 | C23F3/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市中联专利代理有限公司 44274 | 代理人 | 李俊 |
| 主权项 | 一种氧化硅抛光液，其特征在于，包括以下质量百分含量的各组分：<img file="FDA0000476840620000011.GIF" wi="1168" he="709" />所述氧化剂为双氧水；所述表面活性剂聚乙二醇，十二烷基硫酸钠，二苯胺磺酸钠中的一种或其任意组合物。 | ||
| 地址 | 518000 广东省深圳市龙华新区观澜狮径社区悦兴路45号1楼102 | ||