| 发明名称 | 方法和化合物 | ||
| 摘要 | 一种形成电子器件例如有机发光器件的层的方法，该方法包括如下步骤：沉积包含式（I）化合物的前体层，和在开环加成反应中使所述式（I）化合物反应：核心-(反应性基团)<sub>n</sub>（I）其中核心是非聚合的核心基团；并且反应性基团在每次出现时可以是相同的或不同的，每个反应性基团是式（II）的基团：<img file="DDA0000454761170000011.GIF" wi="720" he="472" />其中Sp<sup>1</sup>在每次出现时独立地表示间隔基团；w在每次出现时独立地为0或1；Ar在每次出现时独立地表示未取代或者取代有一个或多个取代基的芳基或杂芳基；R<sup>1</sup>在每次出现时独立地表示H或取代基，条件是至少一个R<sup>1</sup>为取代基；n为至少1；并且*是式（II）基团与核心的连接点；以及其中使式（I）化合物与其自身或者与非聚合的共反应物反应。 | ||
| 申请公布号 | CN103915579A | 申请公布日期 | 2014.07.09 |
| 申请号 | CN201410010038.7 | 申请日期 | 2014.01.09 |
| 申请人 | 剑桥显示技术有限公司;住友化学株式会社 | 发明人 | M·J·哈姆弗里斯;F·鲍塞特 |
| 分类号 | H01L51/56(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I;C09K11/06(2006.01)I;C07D251/24(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 王海宁 |
| 主权项 | 一种形成电子器件的层的方法，该方法包括如下步骤：沉积包含式（I）化合物的前体层，和在开环加成反应中使所述式（I）化合物反应：核心‑(反应性基团)<sub>n</sub>（I）其中核心是非聚合的核心基团；并且反应性基团在每次出现时可以是相同的或不同的，每个反应性基团是式（II）的基团：<img file="FDA0000454761140000011.GIF" wi="728" he="482" />其中：Sp<sup>1</sup>在每次出现时独立地表示间隔基团；w在每次出现时独立地为0或1；Ar在每次出现时独立地表示芳基或杂芳基，所述芳基或杂芳基是未取代的或者取代有一个或多个取代基；R<sup>1</sup>在每次出现时独立地表示H或取代基，条件是至少一个R<sup>1</sup>为取代基；n为至少1；并且*是式（II）基团与核心的连接点；以及其中使式（I）化合物与其自身或与非聚合的共反应物反应。 | ||
| 地址 | 英国剑桥 | ||