用于将图案从图案形成装置转移至衬底上的光刻设备和阻尼方法

摘要

本发明涉及一种用于将图案从图案形成装置转移至衬底上的光刻设备和阻尼方法。本发明的光刻设备包括：支撑框架，其由基座经由振动隔离系统支撑；投影系统，布置成将图案从图案形成装置转移至衬底上，其中所述投影系统包括由支撑框架弹簧支撑的第一框架；和主动阻尼系统，配置成衰减第一框架的移动，所述主动阻尼系统包括：第一传感器系统，配置成提供表示第一框架的绝对移动的第一传感器输出；第一致动器系统，布置成用以在第一框架和支撑框架之间施加力；和控制系统，配置成基于第一传感器输出将驱动信号提供至第一致动器系统。

主权项

一种光刻设备，包括：支撑框架，由基座经由振动隔离系统支撑；投影系统，布置成将图案从图案形成装置转移至衬底上，其中所述投影系统包括由所述支撑框架弹簧支撑的第一框架；和主动阻尼系统，配置成衰减所述第一框架的移动，所述主动阻尼系统包括：第一传感器系统，配置成提供表示所述第一框架的绝对移动的第一传感器输出，第一致动器系统，布置成用以在所述第一框架和所述支撑框架之间施加力，和控制器，配置成基于所述第一传感器输出将驱动信号提供至所述第一致动器系统。