湿法处理晶片状物品的外围区域的装置和工艺

摘要

公开的是一种用于湿法处理晶片状物品的外围区域W的装置(1)。该装置包括：夹持装置(20、50)，用以在该晶片状物品的边缘夹持和转动该晶片状物品；第一液体处理单元(30)，用以向该外围区域提供液体；和第二液体处理单元(60)，用以向该外围区域提供液体。该夹持装置包括辊子(23、53)，用以在该晶片状物品的边缘驱动该晶片状物品。该第一液体处理单元包括：第一液体载具，用以提供第一液体以润湿该外围区域的第一部分；第一液体供应喷嘴，用以提供液体至该第一液体载具；和第一液体排出通道，用以从该第一液体载具去除液体。该第二液体处理单元包括：第二液体载具，用以提供第二液体以润湿该外围区域的第二部分；第二液体供应喷嘴，用以提供液体至该第二液体载具；第二液体排出通道，用以从该第二液体载具去除液体；和第二气体处理部分，具有气体提供喷嘴，用于向已经利用该第二液体处理的该外围区域提供气体以从该外围区域去除大多数该第二液体，并具有气体排出通道，用于排出气体和所去除的液体。此外公开相关的方法。

主权项

处理晶片状物品（W）的外围区域的装置，包括：夹持装置（20、50），用以在该晶片状物品（W）的边缘夹持该晶片状物品并围绕轴A转动该晶片状物品，第一液体处理单元（30），用以向该外围区域提供液体，以及第二液体处理单元（60）用以向该外围区域提供液体，其中该夹持装置包括辊子（23、53），用于在该晶片状物品的边缘驱动该晶片状物品，其中该第一液体处理单元（30）包括：第一液体载具（31，34），用以提供第一液体以润湿该外围区域的第一部分，第一液体供应喷嘴（331），用以提供液体至该第一液体载具（31，34），以及第一液体排出通道（361），用以从该第一液体载具（31，34）去除液体，以及其中该第二液体处理单元（60）用以对已经利用所述第一液体处理单元处理的所述晶片状物品的外围区域进行处理，该第二液体处理单元包括，第二液体载具，用以提供第二液体以润湿该外围区域的第二部分，第二液体供应喷嘴，用以提供液体至该第二液体载具，第二液体排出通道，用以从该第二液体载具去除液体，以及气体处理部分，其关于以所述轴A为中心并垂直于该轴A的圆，周向地邻近所述第二液体载具，该气体处理部分具有气体提供喷嘴，用于向已经利用该第二液体处理的该外围区域提供气体以从该外围区域去除大多数该第二液体，并具有气体排出通道，用于排出气体和所去除的液体；其中该第一液体供应喷嘴和该第二液体供应喷嘴布置为在该晶片状物品的圆周测得的距离至少10cm；并且其中该第一液体处理单元和该第二液体处理单元之间没有布置辊子，从而使得所述晶片状物品的边缘在被所述第一液体处理之后以及在被所述第二液体处理之前不接触辊子。