| 发明名称 |
OXIDE MEDIA FOR GETTERING IMPURITIES FROM SILICON WAFERS |
| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Verfahren zur Herstellung von druckbaren, niedrig- bis hochviskosen Oxidmedien, und deren Verwendung in der Solarzellenherstellung.</p> |
| 申请公布号 |
WO2014101988(A1) |
申请公布日期 |
2014.07.03 |
| 申请号 |
WO2013EP03837 |
申请日期 |
2013.12.18 |
| 申请人 |
MERCK PATENT GMBH |
发明人 |
KOEHLER, INGO;DOLL, OLIVER;BARTH, SEBASTIAN |
| 分类号 |
C30B31/04;C09D183/00;C23C18/12;C23C18/32;H01L21/02;H01L21/22;H01L21/225;H01L21/48;H01L31/0216;H01L31/0288;H01L31/18 |
主分类号 |
C30B31/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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