| 发明名称 | 掩模板和掩膜板的定位方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种掩模板和掩模板的定位方法，涉及微电子领域，能够采用单张掩模板实现重复曝光时图形的对位重合。一种掩膜板，所述掩膜板设置有基准对位标记和与所述基准对位标记相对位的对准对位标记。方法包括：使用掩模板正常曝光，将所述掩模板上的对位标记全部制作于基板上，所述掩模板上的对位标记包括基准对位标记和与所述基准对位标记相对位的对准对位标记；移动基板，将所述基板上的对准对位标记与所述掩模板基准对位标记相对位；设置曝光机的补偿值，根据输入的曝光机的补偿值，控制曝光机进行补偿，抵消所述基板上的对准对位标记和所述掩模板上的基准对位标记间的间距，完成掩膜板与基板的对位后曝光。 | ||
| 申请公布号 | CN102650819B | 申请公布日期 | 2014.07.02 |
| 申请号 | CN201110221058.5 | 申请日期 | 2011.08.03 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 魏小丹;熊正平;孙学佳;张同局;江俊波 |
| 分类号 | G03F1/42(2012.01)I;G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/42(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种掩模板的定位方法，其特征在于，包括：使用掩模板正常曝光，将所述掩模板上的对位标记全部制作于基板上，所述掩模板上的对位标记包括基准对位标记和与所述基准对位标记相对位的对准对位标记；移动基板，将所述基板上的对准对位标记与所述掩模板基准对位标记相对位；设置曝光机的补偿值，根据输入的曝光机的补偿值，控制曝光机进行补偿，抵消所述基板上的对准对位标记和所述掩模板上的基准对位标记间的间距，完成掩膜板与基板的对位后曝光。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||