| 发明名称 | 干蚀刻机及干蚀刻机的下电极 | ||
| 摘要 | 本申请涉及一种干蚀刻机及其下电极，该干蚀刻机用于对基板进行干蚀刻处理，该干蚀刻机包括：上电极；以及下电极，与该上电极相对设置，该下电极的用以承载该基板的上表面形成有多个凸点，所述凸点排布在该下电极的上表面的周围，或者所述凸点以“十”字型或“田”字型排布在该下电极的上表面上。本申请能改善黏片现象，并能有效进行冷却，同时不会造成凸点波纹，由此提高产品的合格率。 | ||
| 申请公布号 | CN103903953A | 申请公布日期 | 2014.07.02 |
| 申请号 | CN201410150959.3 | 申请日期 | 2014.04.15 |
| 申请人 | 上海和辉光电有限公司 | 发明人 | 曾瑞轩;林志明 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01J37/04(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 李玉锁;张浴月 |
| 主权项 | 一种干蚀刻机，用于对基板进行干蚀刻处理，该干蚀刻机包括：上电极；以及下电极，与该上电极相对设置，该下电极的用以承载该基板的上表面形成有多个凸点，所述凸点排布在该下电极的上表面的周围。 | ||
| 地址 | 201500 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室 | ||