| 摘要 |
Vynález se týká chladicího zařízení (30) pro chlazení trysky (3) plazmového hořáku (100), přičemž plazmový hořák (100) obsahuje elektrodu (2), která končí v otvoru (22) trysky (3) nebo v jeho blízkosti, a plazmový průtokový kanál (23) pro vedení plazmového plynu do otvoru (22) trysky (3), přičemž chladicí zařízení (30) je uspořádáno kolem elektrody (2) plazmového hořáku (100). Vynález se dále týká plazmového hořáku (100) a způsobu chlazení trysky (3) plazmového hořáku (100). |
