发明名称 曲面抛光机的抛光装置
摘要 本实用新型公开了一种由抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的曲面抛光机的抛光装置,它包括机架,机架上设有可旋转的抛光盘,其特征是机架上设有实现抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的动态加压装置,所述动态加压装置通过安装在升降机架上的抛光盘对工件保持施加设定的压强,本实用新型结构简单,通过PLC可实现抛光盘对工件施加设定的压强进行抛光,克服了现有抛光存在的缺陷,同时,工作平台的移动,大大提高了生产效率并为实现流水线生产打下了基础。                  
申请公布号 CN203680003U 申请公布日期 2014.07.02
申请号 CN201320871592.5 申请日期 2013.12.27
申请人 湖南宇晶机器股份有限公司 发明人 杨佳葳;刘先交;周斌;徐翊华
分类号 B24B29/02(2006.01)I 主分类号 B24B29/02(2006.01)I
代理机构 益阳市银城专利事务所 43107 代理人 舒斌
主权项 一种曲面抛光机的抛光装置,它包括机架,机架上设有可旋转的抛光盘,其特征是机架上设有实现抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的动态加压装置,所述动态加压装置通过安装在升降机架上的抛光盘对工件保持施加设定的压强。
地址 413001 湖南省益阳市资阳区长春工业园马良北路341号
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