半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统

摘要

描述了半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统。在一个实施例中，识别与过程相关的背景条件。过程具有一个或多个线程，每个线程包括一个或多个背景条件。定义输入输出方程组。每个输入输出方程对应于一线程并且包括线程偏差，所述线程偏差表示为单独背景条件偏差的总和。使用输入输出方程组来建立状态-空间模型，所述状态空间模型描述过程的发展。状态空间模型可以估计单独背景条件偏差。

主权项

一种计算机实施的、用于批次控制的方法，所述方法包括如下步骤：识别与过程相关的背景条件，所述过程具有一个或多个线程，每个线程包括一个或多个背景条件；定义输入输出方程组，所述输入输出方程组描述所述过程，其中，每个输入输出方程对应于一线程并包括线程偏差，所述线程偏差由单独背景条件偏差的总和来表示；以及使用所述输入输出方程组来建立状态‑空间模型，所述状态‑空间模型描述所述过程的发展，所述状态‑空间模型使得能够估计单独背景条件偏差；其中，只要所述线程对应于所述背景条件的组合，则所述线程偏差就是无偏的。