发明名称 | 单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液 | ||
摘要 | 本发明涉及一种单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液,其特征在于:所述单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液是专门针对单面抛光机使用,涉及单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液制备方法。该抛光液是一种含有几种不同粒径大小二氧化硅的抛光液,含有二氧化硅、碱性组合物、阴离子型表面活性剂及水。二氧化硅是胶体二氧化硅、气相二氧化硅或者沉淀法二氧化硅。碱性化合物是氢氧化锂、氢氧化钾、氢氧化钠、氨水、乙二胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵等有机碱类。阴离子表面活性剂是磺酸型表面活性剂、羧酸型表面活性剂及硫酸脂型表面活性剂中的至少一种。本发明根据单面抛光机的抛光特点,将含有几种粒径规格二氧化硅作为磨料,可以降低抛光中的摩擦阻力并取得更佳的润滑作用,在提高抛光效率的同时有更佳抛光效果,并且可以降低生产成本。 | ||
申请公布号 | CN103897605A | 申请公布日期 | 2014.07.02 |
申请号 | CN201210590477.0 | 申请日期 | 2012.12.27 |
申请人 | 天津西美半导体材料有限公司 | 发明人 | 高如山 |
分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 一种单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液,其特征在于:该抛光液专门针对单面抛光机使用,是一种含两种或多种不同粒径二氧化硅的抛光液,含有二氧化硅、碱性化合物、阴离子型表面活性剂及水。二氧化硅是胶体二氧化硅、气相二氧化硅或者沉淀法二氧化硅。碱性化合物例如是氢氧化锂、氢氧化钾、氢氧化钠、氨水、乙二胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵等有机碱类。阴离子表面活性剂是磺酸型表面活性剂、羧酸型表面活性剂及硫酸脂型表面活性剂中的至少一种。 | ||
地址 | 300380 天津市西青区精武镇工业区久安道6号 |