一种碳化硅用机械抛光液及采用其进行机械抛光的方法

摘要

本发明公开了一种碳化硅用机械抛光液及采用其进行机械抛光的方法，以金刚石微粉和氧化铝微粉为磨料，与水和分散剂配制而成的抛光液对大直径高硬度的碳化硅进行机械抛光，能够减少显微镜下碳化硅晶片的可见划痕数目，获得粗糙度小、平整度高、表面损伤小的碳化硅晶片表面，为后续进行化学机械抛光提供条件。

主权项

一种碳化硅用机械抛光液，其特征在于：以金刚石微粉和氧化铝微粉为磨料，与水和分散剂配制而成，所述抛光液中水：分散剂：金刚石微粉：氧化铝微粉的质量比为1:0.1:0.2:0.02‑0.2。