| 发明名称 | 一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法 | ||
| 摘要 | 本发明是关于一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法及其应用。该获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法，包括：步骤1，将被测试样品制备为玻璃熔片,该玻璃熔片的稀释比为R；步骤2，对上述制备的玻璃熔片进行X荧光强度测定，得到样品中某元素的X荧光强度值I；步骤3，根据公式计算得到标准稀释比R<sub>0</sub>下的X荧光强度I<sub>0</sub>。采用本方法可以将元素在不同稀释比下的荧光强度转化为标准稀释比下的荧光强度，从而不再受限于定量称样，可以大大提高分析效率并且降低由于样品在称量过程中吸湿等原因造成的结果误差。 | ||
| 申请公布号 | CN103901066A | 申请公布日期 | 2014.07.02 |
| 申请号 | CN201210574411.2 | 申请日期 | 2012.12.26 |
| 申请人 | 中国建材检验认证集团股份有限公司 | 发明人 | 戴平;马振珠;刘玉兵;王彦君;赵鹰立;闫冉;韩蔚 |
| 分类号 | G01N23/223(2006.01)I | 主分类号 | G01N23/223(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人 | 王伟锋;刘铁生 |
| 主权项 | 1.一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法，其特征在于包括：步骤1，将被测试样品制备为玻璃熔片,该玻璃熔片的稀释比为R；步骤2，对上述制备的玻璃熔片进行X荧光强度测定，得到样品中某元素的X荧光强度值I；步骤3，根据公式：<img file="FDA0000265363691.GIF" wi="359" he="153" />，计算得到标准稀释比R<sub>0</sub>下的X荧光强度I<sub>0</sub>，其中α<sub>i,f</sub>为熔剂影响系数。 | ||
| 地址 | 100024 北京市朝阳区管庄东里1号 | ||