Verfahren und Vorrichtung zum Beizen von Metallen, insbesondere Eisen und Stahl, unter gleichzeitiger Rueckgewinnung der Beizsaeure,申请号DE1953R011441-传众专利搜索

首页产品黄页商标征信

会员服务注册登录

法人/股东/高管

发明名称	Verfahren und Vorrichtung zum Beizen von Metallen, insbesondere Eisen und Stahl, unter gleichzeitiger Rueckgewinnung der Beizsaeure
摘要
申请公布号	DE1012138(B)	申请公布日期	1957.07.11
申请号	DE1953R011441	申请日期	1953.04.17
申请人	DIPL.-ING. OTHMAR RUTHNER	发明人	RUTHNER DIPL.-ING. OTHMAR
分类号	C23G1/36	主分类号	C23G1/36
代理机构		代理人
主权项
地址

您可能感兴趣的专利

触控面板、触控面板之制造方法及光学薄膜;TOUCH PANEL, METHOD OF MANUFACTURING TOUCH PANEL, AND OPTICAL THIN FILM

利用组合键的中文输入装置及方法;APPARATUS AND METHOD FOR INPUTTING CHINESE CHARACTERS USING COMBINATION KEYS

用以确保存取保护计画之装置及方法;APPARATUSES AND METHODS FOR SECURING AN ACCESS PROTECTION SCHEME

联络人的分组处理方法及装置

从资料表栏位注解产生网页程式与对应表单介面之方法;METHOD FOR GENERATING WEB PROGRAM AND CORRESPONDING FORM INTERFACE FROM ANNOTATION OF TABLE FILED

以第一个注音符号爲辨识规则之输入方法

在分散式快取组织上处置压缩资料之技术;HANDLING COMPRESSED DATA OVER DISTRIBUTED CACHE FABRIC

将一群节点时序同步的技术;TIME-SYNCHRONIZING A GROUP OF NODES

图案化制程;PATTERNING PROCESS

负型感光性树脂组成物、树脂硬化膜、隔壁及光学元件

正型感光性黏着剂组成物、黏着剂图案、附黏着剂层半导体晶圆、半导体装置及半导体装置的制造方法

ＥＵＶ微影术用反射型光罩基底、该光罩基底用之附机能膜之基板以及该等之制造方法;REFLECTIVE MASK BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY, SUBSTRATE WITH FUNTION FILM FOR THE MASK BLANK, AND METHODS FOR THEIR PRODUCTION

动态对焦调整系统及其动态对焦调整方法;DYNAMICAL FOCUS ADJUSTMENT SYSTEM AND RELATED METHOD OF DYNAMICAL FOCUS ADJUSTMENT

固态成像装置;SOLID-STATE IMAGING DEVICES

偏光板、影像显示装置及液晶显示装置;POLARIZING PLATE, IMAGE DISPLAY DEVICE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

相机模组;CAMERA MODULE

视差光栅面板、应用其之立体显示器与其显示方法;PARALLAX BARRIER PANEL, AUTOSTEREOSCOPIC DISPLAY APPARATUS, AND DISPLAY METHOD THEREOF

测试装置;TEST DEVICE

用于测试探针卡之转换卡

传热结构、其制造方法以及其散热方法;HEAT TRANSMITTING STRUCTURE AS WELL AS MANUFACTURING METHOD AND HEAT DISSIPATION METHOD OF THE SAME