发明名称 半导体装置;SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 半导体装置,其包括在基板上整合的第一电晶体及第二电晶体。第一电晶体及第二电晶体的各者包括奈米尺寸主动区,奈米尺寸主动区包括配置在奈米尺寸主动区的个别端部中的源极区及汲极区及配置在源极区及汲极区之间的通道形成区。第一电晶体的源极区及汲极区的导电型与第二电晶体的源极区及汲极区相同,而第二电晶体的临界电压低于第一电晶体的临界电压。第二电晶体的通道形成区可包括均质掺杂区,均质掺杂区的导电型与第二电晶体的源极区及汲极区相同且与第一电晶体的通道形成区不同。
申请公布号 TW201426980 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW102142750 申请日期 2013.11.25
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 石城大;吴昌佑;朴星一
分类号 H01L27/105(2006.01);H01L29/78(2006.01) 主分类号 H01L27/105(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文
主权项
地址 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 南韩